Filtr CPL K&F Concept Nano-X 82mm
Filtr polaryzacyjny K&F Concept CPL Nano-X Ultra-Low Reflection to wysokiej jakości filtr optyczny dedykowany dla profesjonalistów i zaawansowanych amatorów fotografii. Dzięki zastosowaniu innowacyjnych powłok Nano-X, filtr skutecznie eliminuje odbicia i refleksy świetlne, podnosi kontrast obrazu oraz intensyfikuje kolory, zachowując pełną naturalność sceny. Średnica filtra wynosi 82 mm, co pozwala na montaż w szerokiej gamie obiektywów.
Szkło optyczne najwyższej klasy
Zastosowane japońskie szkło AGC charakteryzuje się wyjątkową przejrzystością i rozdzielczością optyczną zgodną ze standardami 4K i 8K. Soczewka filtracyjna zapewnia transmisję światła na poziomie ≥99,8% przy współczynniku odbicia ≤0,1%, co przekłada się na klarowny obraz bez niepożądanych zniekształceń, przebarwień czy utraty ostrości.
Zaawansowana technologia powłok Nano-X
Filtr został wyposażony w 28 warstw nano-powłok typu MRC (Multi-Resistant Coating). Powłoki te mają właściwości antyrefleksyjne, hydrofobowe i oleofobowe, skutecznie ograniczają powstawanie smug, plam i odblasków. Dodatkowo chronią powierzchnię szkła przed pyłem, kurzem i drobnymi uszkodzeniami mechanicznymi, znacząco ułatwiając czyszczenie.
Funkcjonalność
Filtr polaryzacyjny eliminuje światło spolaryzowane, co redukuje niechciane odbicia ze szkła, wody i metalicznych powierzchni. Efektem jego działania jest:
- wzmocnienie nasycenia kolorów (np. zieleni, błękitu nieba),
- poprawa kontrastu scen w świetle dziennym,
- zmniejszenie zamglenia atmosferycznego,
- lepsze odwzorowanie detali w ujęciach plenerowych i architektonicznych.
Konstrukcja mechaniczna
Filtr posiada niskoprofilową ramkę typu SLIM o grubości zaledwie 5,3 mm, co eliminuje ryzyko winietowania nawet w przypadku stosowania z szerokokątnymi obiektywami. Ramka została wykonana ze stopu aluminium i magnezu, co zapewnia wysoką trwałość i odporność na uszkodzenia przy zachowaniu niskiej wagi. Filtr jest wyposażony w podwójne gwintowanie, umożliwiające montaż dodatkowych akcesoriów.
Neutralność kolorystyczna i zgodność z autofokusem
Dzięki zaawansowanym technologiom powłok, filtr nie wpływa negatywnie na balans bieli ani ogólną kolorystykę obrazu. Nie zaburza również pracy systemów autofokusa, nawet w trudnych warunkach oświetleniowych, co pozwala na pełną swobodę fotografowania i filmowania.
Najważniejsze cechy:
- Wyprodukowany ze szkła optycznego najwyższej jakości, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%
- Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć.
- Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń.
- Doskonały stosunek jakości do ceny.
Sprawdzi się zarówno w profesjonalnym studiu, jak i w dynamicznej pracy w plenerze, oferując wyjątkowe właściwości optyczne i mechaniczną trwałość.
Zawartość zestawu:
- 1× filtr polaryzacyjny K&F Concept CPL Nano-X Ultra-Low Reflection (82 mm)
- 1× sztywne, plastikowe opakowanie ochronne
Kompatybilność
Filtr pasuje do wszystkich obiektywów o średnicy gwintu 82 mm.